真空爐作為高溫材料處理的核心設(shè)備，其溫度測量與控制的精度直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與工藝穩(wěn)定性。傳統(tǒng)熱電偶與新興紅外測溫技術(shù)的競爭，成為工業(yè)領(lǐng)域的技術(shù)焦點。

熱電偶與紅外測溫儀的核心對比

1. 熱電偶的局限性

原理與優(yōu)勢

熱電偶基于塞貝克效應(yīng)，通過接觸式測量將溫度轉(zhuǎn)化為電信號，適用于1200℃~1800℃高溫環(huán)境，安裝簡便且成本較低。

真空環(huán)境缺陷：

測量滯后性

熱電偶需通過物理接觸傳導(dǎo)熱量，響應(yīng)時間長達數(shù)秒至數(shù)分鐘，導(dǎo)致控溫系統(tǒng)存在“時滯現(xiàn)象”

輻射熱干擾

真空爐內(nèi)加熱元件裸露，熱電偶易受輻射熱影響，實測溫度高于物料真實溫度。

維護成本高

長期高溫工作易使熱電偶老化，壽命僅幾周至數(shù)月，且真空密封要求嚴苛，維護頻繁。

2. 紅外測溫儀的技術(shù)突破

非接觸式測量

通過檢測物體表面紅外輻射能量計算溫度，避免接觸式測量的物理干擾，尤其適合旋轉(zhuǎn)、移動或危險目標。

性能優(yōu)勢：

響應(yīng)速度

毫秒級響應(yīng)（如15ms），實時捕捉溫度變化，提升控溫精度。

抗干擾能力

雙色紅外技術(shù)（比值法）可消除煙霧、灰塵、水蒸氣及部分遮擋的影響，適應(yīng)復(fù)雜工況。

寬溫區(qū)覆蓋

支持150℃~4000℃范圍，覆蓋真空爐全流程需求。

真空環(huán)境適配性

通過短波長（0.8~1.1μm）設(shè)計減少氣體吸收干擾，結(jié)合PID算法優(yōu)化信號處理，確保真空環(huán)境下穩(wěn)定性。

對比結(jié)論：在真空爐高溫、高壓、快速變溫場景中，紅外測溫儀在響應(yīng)速度、抗干擾性及長期可靠性上顯著優(yōu)于熱電偶。

紅外測溫儀選型關(guān)鍵參數(shù)

1. 核心性能指標

測溫范圍與精度

需匹配工藝要求，例如碳化硅晶體生長需2500℃~3000℃雙色測溫儀，精度需≤0.75%FS。

光學分辨率（距離系數(shù)）

高分辨率（如280:1）確保小目標（≥2mm）的精準測量，避免背景輻射干擾。

響應(yīng)波長選擇

真空環(huán)境下優(yōu)先選用0.8~1.1μm短波設(shè)備，減少氣體分子吸收影響。

抗干擾設(shè)計

需具備電磁屏蔽、抗氧化涂層及信號濾波功能，應(yīng)對真空爐內(nèi)高頻感應(yīng)加熱干擾。

2. 功能擴展需求

數(shù)據(jù)接口

支持4~20mA、RS485等輸出，兼容PLC或溫控器實現(xiàn)閉環(huán)控制。

可視化輔助

集成激光瞄準或視頻目鏡，便于安裝校準與實時監(jiān)控。

環(huán)境適應(yīng)性

耐高溫透鏡（如藍寶石）與不銹鋼外殼，確保長期穩(wěn)定運行。

3. 雙色 vs. 單色技術(shù)

雙色優(yōu)勢

通過兩個波長比值計算溫度，降低發(fā)射率誤差與局部遮擋影響，適合表面氧化或污漬的物料。

單色適用場景

發(fā)射率穩(wěn)定的均質(zhì)材料（如金屬），成本較低。

中科紅外測溫儀的技術(shù)亮點與應(yīng)用案例

1. 產(chǎn)品技術(shù)優(yōu)勢

高精度雙色測溫

采用Si-Si探測器與雙膠合透鏡，測溫范圍600~3000℃，重復(fù)精度達0.2%，滿足真空爐超高溫需求。

智能抗干擾設(shè)計

內(nèi)置控制算法與補償功能，有效抑制電磁干擾與信號波動。

工業(yè)級耐用性

IP65防護等級、抗氧化涂層及不銹鋼外殼，適應(yīng)真空、氫氣等苛刻環(huán)境。

2. 典型應(yīng)用場景

真空熱壓爐

實時監(jiān)測碳化鎢燒結(jié)溫度，替代熱電偶減少維護成本，控溫精度提升30%。

晶體生長爐

通過300:1光學分辨率精準測量晶體溫度，誤差≤±1℃，保障晶體均勻性。

熱風爐拱頂

在壓力波動與振動環(huán)境中，雙色技術(shù)實現(xiàn)±5℃穩(wěn)定性，壽命延長至3年以上。

3. 客戶價值