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數(shù)一數(shù)先進(jìn)精密測(cè)量技術(shù)有哪些


  來源: 傳感器技術(shù) 時(shí)間:2021-02-22 編輯:儀器儀表WXF
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目前,在微/納米機(jī)械中,精密測(cè)量技術(shù)一個(gè)重要研究對(duì)象是微結(jié)構(gòu)的機(jī)械性能與力學(xué)性能、諧振頻率、彈性模量、殘余應(yīng)力及疲勞強(qiáng)度等。微細(xì)結(jié)構(gòu)的缺陷研究,如金屬聚集物、微沉淀物、微裂紋等測(cè)試技術(shù)的納米分析技術(shù)目前尚不成熟。國外在此領(lǐng)域主要開展用于晶體缺陷的激光掃描層析技術(shù),用于研究樣品頂部幾個(gè)微米之內(nèi)缺陷情況的納米激光雷達(dá)技術(shù),其探測(cè)尺度分辨率均可達(dá)到1nm。


以激光波長為已知長度利用邁克耳遜干涉系統(tǒng)測(cè)量位移

以激光波長為已知長度利用邁克耳遜干涉系統(tǒng)測(cè)量位移


圖像識(shí)別測(cè)量技術(shù)


隨著近代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,幾何尺寸與形位測(cè)量已從簡單的一維、二維坐標(biāo)或形體發(fā)展到復(fù)雜的三維物體測(cè)量,從宏觀物體發(fā)展到微觀領(lǐng)域。正確地進(jìn)行圖像識(shí)別測(cè)量已經(jīng)成為測(cè)量技術(shù)中的重要課題。


圖像識(shí)別測(cè)量過程包括:(1)圖像信息的獲?。唬?)圖像信息的加工處理,特征提??;(3)判斷分類。計(jì)算機(jī)及相關(guān)計(jì)算技術(shù)完成信息的加工處理及判斷分類,這些涉及到各種不同的識(shí)別模型及數(shù)理統(tǒng)計(jì)知識(shí)。


圖像測(cè)量系統(tǒng)一般由以下結(jié)構(gòu)組成。以機(jī)械系統(tǒng)為基礎(chǔ),線陣、面陣電荷耦合器件CCD或全息照相系統(tǒng)構(gòu)成攝像系統(tǒng);信息的轉(zhuǎn)換由視頻處理器件完成電荷信號(hào)到數(shù)字信號(hào)的轉(zhuǎn)換;計(jì)算機(jī)及計(jì)算技術(shù)實(shí)現(xiàn)信息的處理和顯示;回饋系統(tǒng)包括溫度誤差補(bǔ)償,攝像系統(tǒng)的自動(dòng)調(diào)焦等功能;載物工作臺(tái)具有三坐標(biāo)或多坐標(biāo)自由度,可以精確控制微位移。


圖像測(cè)量系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

圖像測(cè)量系統(tǒng)結(jié)構(gòu)


1、CCD傳感器技術(shù)


物體三維輪廓測(cè)量方法中,有三坐標(biāo)法、干涉法、穆爾等高線法及相位法等。而非接觸電荷耦合器件CCD是近年來發(fā)展很快的一種圖像信息傳感器。它具有自掃描、光電靈敏度高、幾何尺寸精確及敏感單元尺寸小等優(yōu)點(diǎn)。隨著集成度的不斷提高、結(jié)構(gòu)改善及材料質(zhì)量的提高,它已日益廣泛地應(yīng)用于工業(yè)非接觸圖像識(shí)別測(cè)量系統(tǒng)中。


在對(duì)物體三維輪廓尺寸進(jìn)行檢測(cè)時(shí),采用軟件或硬件的方法,如解調(diào)法、多項(xiàng)式插值函數(shù)法及概率統(tǒng)計(jì)法等,測(cè)量系統(tǒng)分辨率可達(dá)微米級(jí)。也有將CCD應(yīng)用于測(cè)量半導(dǎo)體材料表面應(yīng)力的研究。


2、照相技術(shù)


全息照相測(cè)量技術(shù)是60年代發(fā)展起來的一種新技術(shù),用此技術(shù)可以觀察到被測(cè)物體的空間像。激光具有極好的空間相干性和時(shí)間相干性,通過光波的干涉把經(jīng)物體反射或透射后,光束中的振幅與相位信息。


超精密測(cè)量技術(shù)所代表的測(cè)量技術(shù)在國防、航天、航空、航海、鐵道、機(jī)械、輕工、化工、電子、電力、電信、鋼鐵、石油、礦山、煤炭、地質(zhì)、勘側(cè)等領(lǐng)域有極其廣泛的應(yīng)用,在國民經(jīng)濟(jì)建設(shè)中占有重要的地位。在精密制造中,超精密測(cè)量技術(shù)是產(chǎn)品合格的基本保證。

關(guān)鍵詞:先進(jìn) 精密測(cè)量 技術(shù)    瀏覽量:8493

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