這里使用的AlGaN/GaN HEMT器件基于TriQuint的0.25 μmGaN工藝TQGaN25,采用100mm SiC晶圓制成。這是一種TriQuint推出的大規(guī)模制造技術(shù)。在PAE匹配條件下,一個(gè)四指100μm柵極寬度晶體管(偏置電壓:Vd=40V,Id=100 mA/mm)的典型功率密度為5.5W/mm,10GHz時(shí)的PAE為60%。
這里使用的AlGaN/GaN HEMT器件基于TriQuint的0.25 μmGaN工藝TQGaN25,采用100mm SiC晶圓制成。這是一種TriQuint推出的大規(guī)模制造技術(shù)。在PAE匹配條件下,一個(gè)四指100μm柵極寬度晶體管(偏置電壓:Vd=40V,Id=100 mA/mm)的典型功率密度為5.5W/mm,10GHz時(shí)的PAE為60%。
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