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計(jì)量技術(shù)支撐微納米科技未來發(fā)展,建立溯源標(biāo)準(zhǔn)至關(guān)重要


  來源: 張江評(píng)論 時(shí)間:2020-12-22 編輯:清風(fēng)
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微納米計(jì)量技術(shù)是微納米科技發(fā)展的基礎(chǔ)和保障,大力發(fā)展微納米計(jì)量工作,建立簡(jiǎn)潔高效的計(jì)量體系對(duì)我國(guó)科技、經(jīng)濟(jì)發(fā)展意義重大。


文/李源(上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院教授級(jí)高級(jí)工程師,主要從事微納米計(jì)量測(cè)試領(lǐng)域的研究工作。)



當(dāng)今,微納米科技已成為許多國(guó)家提升核心競(jìng)爭(zhēng)力的戰(zhàn)略選擇,世界各國(guó)都在加強(qiáng)對(duì)微納米科技的研究,新技術(shù)、新突破接踵而至,并帶來深刻的科技革命。目前,微納米科技已逐步應(yīng)用到納米制造、微電子、新材料、環(huán)境監(jiān)測(cè)、超精密加工等前沿科技領(lǐng)域。


如果說微納米測(cè)量與表征技術(shù)是微納米科技與高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)和保障,那么微納米計(jì)量技術(shù)就是保證納米測(cè)量與表征準(zhǔn)確性和可溯源性的重要手段,通過建立完整的微納米尺寸計(jì)量量值溯源體系,為高科技產(chǎn)業(yè)、先進(jìn)制造業(yè)和科技進(jìn)步提供技術(shù)保障。微納米計(jì)量技術(shù)從米定義波長(zhǎng)基準(zhǔn)開始,將波長(zhǎng)物理參數(shù)通過標(biāo)準(zhǔn)裝置、標(biāo)準(zhǔn)樣板傳遞到高科技產(chǎn)業(yè)、先進(jìn)制造業(yè)等相關(guān)儀器和裝置上,保障研究成果和開發(fā)產(chǎn)品的準(zhǔn)確性和可靠性。微納米尺寸計(jì)量量值溯源體系的建立包括3個(gè)要素:微納米計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器(標(biāo)準(zhǔn)樣板)的研制、微納米尺寸計(jì)量方法的研究和微納米幾何量表征。


建立我國(guó)溯源標(biāo)準(zhǔn)至關(guān)重要且迫在眉睫


在微納米科技水平不斷提高的大背景下,大量的納米加工制備儀器和測(cè)量?jī)x器快速發(fā)展。以半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?yàn)槔?,離子刻蝕機(jī)、電子刻蝕機(jī)等加工儀器和電子顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)、臺(tái)階儀、線寬儀等測(cè)量?jī)x器的需求增長(zhǎng)迅速,這些納米加工和檢測(cè)儀器大多依賴進(jìn)口,單臺(tái)儀器的價(jià)值數(shù)以百萬元計(jì)。由于缺乏對(duì)這些儀器進(jìn)行驗(yàn)收的有效手段和方法,其主要技術(shù)指標(biāo)受制于相關(guān)儀器的出口廠家,貿(mào)易公平受到技術(shù)壁壘的挑戰(zhàn)。此外,為了保證測(cè)量?jī)x器數(shù)值的準(zhǔn)確可靠,不少使用者不得不從國(guó)外進(jìn)口納米尺度標(biāo)準(zhǔn)樣品并定期送至國(guó)外機(jī)構(gòu)計(jì)量,費(fèi)用高、耗時(shí)長(zhǎng),而且未從根本上解決量值溯源問題。因此,無論就經(jīng)濟(jì)利益還是就國(guó)家戰(zhàn)略發(fā)展的政治意義而言,建立我國(guó)溯源標(biāo)準(zhǔn)至關(guān)重要且迫在眉睫。


通過建立我國(guó)的納米測(cè)量溯源標(biāo)準(zhǔn),并使之作為溝通國(guó)際貿(mào)易和國(guó)際技術(shù)合作的紐帶,可以消除相關(guān)貿(mào)易體系的技術(shù)壁壘,推動(dòng)我國(guó)納米相關(guān)產(chǎn)業(yè)的有序發(fā)展。以上海為中心的長(zhǎng)三角地區(qū),是我國(guó)經(jīng)濟(jì)和貿(mào)易最為發(fā)達(dá)的地區(qū),也是以半導(dǎo)體、精密加工技術(shù)為代表的先進(jìn)制造業(yè)的中心,在上海建立全國(guó)領(lǐng)先的納米測(cè)量溯源標(biāo)準(zhǔn),對(duì)推動(dòng)上海的半導(dǎo)體等先進(jìn)制造業(yè)的發(fā)展有非常重要的作用。


微納米測(cè)量?jī)x器


微納米計(jì)量的被測(cè)對(duì)象包括被測(cè)結(jié)構(gòu)的三維尺寸、位置和形貌特征等。目前,廣泛采用的檢測(cè)方法和儀器主要包括顯微干涉、共聚焦顯微、光學(xué)式輪廓儀、光學(xué)顯微視覺檢測(cè)等光學(xué)方法,原子力顯微鏡、掃描探針等掃描探針顯微方法,機(jī)械式輪廓儀,以及高精度坐標(biāo)測(cè)量方法等幾種。除此之外,還有幾種針對(duì)微結(jié)構(gòu)幾何量測(cè)量的光學(xué)方法,如三角測(cè)量法、激光光切法、光柵投影法等。


對(duì)于所有基于光學(xué)原理的幾何量測(cè)量方法,由于存在衍射受限,系統(tǒng)的橫向分辨率由物鏡的數(shù)值孔徑?jīng)Q定,一般在微米量級(jí),這也就決定了它們不能分辨微米量級(jí)以下更細(xì)微的形貌特征。雖然有些光學(xué)測(cè)量方法能達(dá)到很高的縱向分辨率,但受橫向分辨的限制,其評(píng)定出的表面參數(shù)常常與其他類型儀器的測(cè)量結(jié)果有一定的差別。此外,光探針方法在測(cè)量含有較大傾斜角的輪廓表面時(shí)會(huì)出現(xiàn)部分光不能反射回物鏡的情況,造成測(cè)量誤差。在測(cè)量臺(tái)階邊緣時(shí),光探針法會(huì)夸大測(cè)量結(jié)果,造成信號(hào)嚴(yán)重失真。對(duì)于干涉顯微法,在表面形貌上陡峭的斜坡產(chǎn)生的干涉條紋很細(xì)很密,以至于用面陣電荷耦合器件(CCD)難以探測(cè)和分辨,另外,基于光學(xué)干涉方法的儀器一般要求被測(cè)表面的材料必須相同。除此之外,在測(cè)量對(duì)象上,光學(xué)方法也受到了很多限制,即對(duì)曲面、溝槽等特殊結(jié)構(gòu)無法進(jìn)行測(cè)量。掃描探針顯微鏡(SPM)最初作為圖像觀察儀器而發(fā)明,雖然它具有亞納米級(jí)分辨率,但是不能達(dá)到同等量級(jí)的測(cè)量精度。SPM的缺點(diǎn)也比較突出,主要體現(xiàn)在測(cè)量速度慢、效率低、測(cè)量范圍小。通過結(jié)合附加定位測(cè)量平臺(tái)的方法,進(jìn)一步擴(kuò)展SPM的應(yīng)用領(lǐng)域,也是當(dāng)前微納米計(jì)量領(lǐng)域的熱點(diǎn)研究工作。


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