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譚久彬院士:超精密測量是支撐光刻機技術發(fā)展的基石


  來源: 儀器儀表學報 時間:2023-06-08 編輯:清風
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[編者按] 光刻機是制造芯片的核心裝備,提升光刻機的研發(fā)制造能力,對國產(chǎn)芯片發(fā)展進步至關重要。光刻機涉及多項復雜的先進技術,中國工程院譚久彬院士在《儀器儀表學報》2023年3期發(fā)表《超精密測量是支撐光刻機技術發(fā)展的基石》一文,文章對超精密測量技術在光刻機制造中的重要作用進行了闡述。


譚久彬簡介:中國工程院院士、國家計量戰(zhàn)略專家委員會委員、中國儀器儀表學會副理事長、哈爾濱工業(yè)大學精密儀器工程研究院院長。


超精密測量是支撐光刻機技術發(fā)展的基石

譚久彬


摘要:光刻機是尖端裝備的珠穆朗瑪峰。超精密測量是支撐光刻機產(chǎn)品研發(fā)與制造,保證光刻機產(chǎn)品制造精度等級與質量水平的基石。本文綜述了光刻機產(chǎn)業(yè)的特點與發(fā)展趨勢。在此基礎上,從零部件、分系統(tǒng)、整機集成、整機性能層面闡述了超精密測量對光刻機技術發(fā)展的支撐作用。分析了光刻機產(chǎn)品精密能力提升的途徑和超精密光刻機產(chǎn)業(yè)測量體系建立的必要性,包括管控超精密光刻機產(chǎn)品制造質量的工業(yè)測量體系和管控光刻機產(chǎn)品工業(yè)測量體系量值準確可靠的計量體系。提出了建設光刻機產(chǎn)業(yè)計量測試中心的必要性。


關鍵字:光刻機;超精密測量;工業(yè)測量體系;計量體系;計量測試中心


1、引    言

光刻機產(chǎn)業(yè)處于高端裝備制造鏈的頂端,既是技術鏈的頂端,又是價值鏈的頂端;光刻機產(chǎn)業(yè)的高質量發(fā)展不僅會直接拉動芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,而且會極大地牽動整個高端裝備制造業(yè)的發(fā)展,是大國必爭的戰(zhàn)略制高點。要打造一個有牽動力和競爭力的光刻機產(chǎn)業(yè),首先必須打造光刻機產(chǎn)業(yè)高質量零部件產(chǎn)品的制


造鏈和產(chǎn)業(yè)鏈,這是光刻機產(chǎn)業(yè)高質量發(fā)展的基礎與前提。超精密光刻機制造精度等級與質量水平,決定了我國超精密光刻機產(chǎn)業(yè)和整個高端裝備制造業(yè)的核心競爭力。要成功研發(fā)與制造光刻機產(chǎn)品,并不斷提高光刻機產(chǎn)品制造精度等級與質量水平,就必須首先完成系統(tǒng)的超精密測量能力建設。沒有系統(tǒng)的超精密測量整體能力支撐,就不可能制造出質量合格的光刻機產(chǎn)品;即便勉強研發(fā)出光刻機樣機,也很難產(chǎn)業(yè)化,也就是說,沒有超精密測量能力,就無法生產(chǎn)出質量合格的超精密光刻機產(chǎn)品,即無法滿足超精密、高性能、高穩(wěn)定性、高可靠性和長壽命等要求。系統(tǒng)的超精密測量整體能力建設是支撐光刻機產(chǎn)業(yè)高質量的基石,是基礎的基礎。超精密測量能力建設處于基礎性、先導性、戰(zhàn)略性地位,必須優(yōu)先發(fā)展。


2、光刻機產(chǎn)業(yè)的特點與發(fā)展趨勢

2.1、光刻機是人類制造史上精度和性能水平最高的機器

超精密光刻機被譽為“超精密尖端裝備的珠穆朗瑪峰”,是人類制造史上精度和性能水平最高的機器。其精度和性能已經(jīng)接近人類超精密制造在現(xiàn)階段的精度極限和性能極限。光刻機的工作原理是,采用類似照相機原理的方式,把掩模板上的集成電路等精細圖形通過物鏡系統(tǒng)按比例縮小,成像到硅片上;然后使用化學方法顯影,再經(jīng)過離子束刻蝕,得到刻在硅片上的集成電路等精細圖形[1]。超精密光刻機是在超精密量級上把最先進的光、機、電、控等十幾個至幾十個分系統(tǒng),幾萬個乃至十幾萬個零部件集成在一起,通過及其復雜和嚴密的超精密測控系統(tǒng),使光刻機的十幾個至幾十個分系統(tǒng)高精度和高性能協(xié)同工作。它是人類裝備制造史上復雜程度最高、技術難度最大、制造精度最高、綜合性能最強的尖端超精密裝備。它在高速和高加速度下,達到納米級的同步精度、單機套刻精度和匹配套刻精度等,這與傳統(tǒng)的精度提升環(huán)境完全不同。精度和性能是超精密光刻機的生命,其精度和性能提升一點點,通常都要付出幾倍,乃至十幾倍的代價。


2.2、現(xiàn)有光刻機是集成全球超精密制造和測量能力的高精尖技術的結晶

由于光刻機制造與集成難度極大,目前全世界只有少數(shù)幾家公司能夠研制和生產(chǎn)。光刻機主要以荷蘭ASML,日本Nikon和Canon三大品牌為主,而最高端EUV光刻機僅有ASML一家公司有能力制造。其中用于7nm節(jié)點制程的EUV光刻機擁有10萬多個光機零件,涉及上游5000多家供應商。這些零部件對精度、性能和可靠性的要求極高,只有發(fā)揮供應鏈上所有頂尖制造商的技術優(yōu)勢,確保全部零部件都滿足設計要求,達到驗收標準,最終超精密光刻機才有可能研發(fā)成功。


關鍵詞:譚久彬 超精密測量 光刻機    瀏覽量:9126

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